Peralatan pemprosesan gas buangan pengkatalis fotooksi terutamanya digunakan untuk gas buangan sinar UV ozon tinggi, memecahkan gas buangan perindustrian seperti: ammonia, amine, hidrogen sulfida, methyl hydrogen, methanol, methyl ether, butyl acetate, ethyl acetate, dimethyl disulfide, karbon disulfide dan styrene, sulfida H2S, VOC kelas, benzen, benzene, butalene struktur rantaian molekul, supaya rantaian molekul sebatian bau polimer organik atau anorganik di bawah sinar ultraviolet dipecahkan menjadi sebatian molekul rendah, seperti CO2 dan H2O dan sebagainya. Menggunakan sinar UV ozon tinggi untuk memecahkan molekul oksigen dan molekul air dalam udara untuk menghasilkan oksigen bebas (oksigen aktif) dan radikal bebas OH, kerana oksigen bebas dan ketidakseimbangan elektron positif dan negatif yang dibawa, maka ia perlu mengikat dengan molekul oksigen dan menghasilkan ozon. UV + O2 --- O_ + O * (oksigen aktif) + O2 --- O3 (ozon), yang diketahui bahawa ozon mempunyai kesan oksidasi yang sangat kuat terhadap bahan organik, kesan kepada gas buangan perindustrian dan bau merangsang lain.

Juga dengan menambah pengkatalis: mengikut komponen gas buangan yang berbeza mengkonfigurasi lebih daripada 27 jenis pengkatalis inert yang sesuai, pengkatalis menggunakan jaringan logam seluler sebagai pembawa, bersentuhan dengan sumber cahaya, pengkatalis inert melakukan tindak balas katalis di bawah sumber cahaya 338 nanometer, memperbesar kesan sumber cahaya 10-30 kali, supaya ia bertindak balas sepenuhnya dengan gas buangan, mengurangkan masa sentuhan gas buangan dan sumber cahaya, sehingga meningkatkan kecekapan pembersihan gas buangan.

Pemanas juga mempunyai kesan yang serupa dengan fotosintesis tumbuhan untuk membersihkan gas buangan. Melalui pencahayaan panjang gelombang tertentu, nano-fotokatalis, menghasilkan pasangan lubang elektron, membolehkan fotokatalis bertindak dengan molekul H2O sekeliling molekul O2, menggabungkan untuk menghasilkan radikal bebas hidroksi OH, mengunci pelbagai komponen berbahaya dalam udara melalui lapisan dasar bebas hidroksi, memecahkan struktur molekul berbahaya, pertumbuhan dan keupayaan aktiviti virus, dengan itu mencapai tujuan pembiakan bakteria, pembersihan udara, deodorasi, dan menghapuskan pencemaran. Selepas menggunakan peralatan pengeluaran udara untuk memasuki peralatan pembersihan ini, peralatan pembersihan menggunakan sinar UV dan ozon untuk gas pengeluaran perindustrian untuk tindak balas oksidasi pemecahan sinergi, supaya pemecahan gas pengeluaran perindustrian ditukar kepada sebatian molekul rendah, air dan karbon dioksida, dan kemudian dikeluarkan melalui paip kunjungan. Gunakan sinar UV untuk memecah ikatan molekul dalam gas buangan perindustrian, merosakkan asid nuklear (DNA), dan kemudian melalui ozon untuk tindak balas oksidasi untuk mencapai tujuan pembersihan dan pembunuhan. Dari pertimbangan kecekapan udara bersih, kami memilih C-band UV dan ozon menggabungkan peranti arus korona tinggi, menggunakan prinsip gabungan teknologi penyerapan korona denyutan untuk menghapuskan gas berbahaya, di mana C-band UV terutamanya digunakan untuk mengeluarkan gas organik seperti hidrogen sulfida, ammonia, benzen, tolfen, ditaphenel, formaldehid, etil asetat, etana, aseton, urea, resin dan lain-lain, menjadikan bahan organik menjadi bahan anorganik.

Peranti pembersihan fotolisis UV terdiri daripada peranti dan komponen seperti unit penapis awal, peranti ultraviolet gelombang C, peranti katalis, pengumpulan pengurangan, penjana ozon dan unit penapis.

Guangxi peralatan pembersih gas buangan fotooksigen Lanzhou peralatan pembersih gas buangan fotooksigen