CrystalTiga sasaran magnetron sputter

Nombor Model:VTC-600-3HD

Gambaran keseluruhan produk:

VTC-600-3HD tiga sasaran magnetron sputter adalahzuiPeralatan salutan yang baru dibangunkan, boleh digunakan untuk menyediakan filem ferroelektrik satu atau pelbagai lapisan, filem konduktif, filem aloi, filem semikonduktor, filem seramik, filem media, filem optik, filem oksida, filem keras, filem PTFE dan lain-lain. Berbanding dengan peralatan yang sama, ia bukan sahaja digunakan secara meluas, tetapi juga mempunyai kelebihan saiz yang kecil untuk operasi, adalah peralatan yang sesuai untuk menyediakan filem bahan dalam makmal, khususnya untuk penyelidikan makmal elektrolit keadaan pepejal dan OLED.

Ciri-ciri utama:

• Boleh menyediakan pelbagai filem, digunakan secara meluas
• Saiz kecil, operasi mudah
• Bilik vakum, reka bentuk modular pam vakum, kawalan bekalan kuasa untuk reka bentuk pembahagian, boleh menyesuaikan keperluan pembelian mengikut keperluan sebenar pengguna.
• Boleh memilih bekalan kuasa mengikut keperluan sebenar pengguna, boleh satu bekalan kuasa mengawal beberapa senapan sasaran, juga boleh beberapa bekalan kuasa satu senapan sasaran kawalan

Kepala sputtering magnetron：

• 3 kepala sputtering magnetron dipasang dalam alat, dan semuanya dilengkapi dengan lapisan sejuk air
• Salah satu kepala sputtering disambungkan dengan bekalan kuasa RF, terutamanya sasaran penebat sputtering
• Kepala sputtering lain disambungkan dengan bekalan kuasa DC, sasaran konduktif sputtering utama
• Keperluan saiz sasaran: diameter 50mm, ketebalan 0.1-5mm (ketebalan berbeza kerana bahan sasaran yang berbeza)
• Kabel sambungan RF boleh dipesan secara berasingan sebagai cadangan
• Peralatan mengandungi penyejukan air untuk penyejukan kepala sasaran

Pengangkut Sampel：

• Saiz pembawa sampel: φ140mm (zuiBesar boleh diletakkan pada dasar 4'
• Pengangkut sampel boleh berputar dengan kelajuan: 1 - 20 rpm (boleh laras)
• Pengangkut SampelzuiSuhu yang boleh dipanaskan 500 ℃

Ruang vakum：

• Ruang vakum: φ300 mm × 300 mm H, dibuat daripada keluli tahan karat
• Tingkap pengamatan: Φ100 mm
• Ruang dibuka dengan cara terbuka atas, menjadikan penukaran sasaran lebih mudah

Pengawal aliran gas：

• 2 pengukur aliran jisim dipasang dalam alat, jarak ukuran: 0-100sccm
• Tetapan aliran gas boleh beroperasi pada skrin sentuh 6 inci
• Sistem ini memerlukan gas Ar untuk beroperasi dan injap pengurangan tekanan dipasang pada silinder gas (tidak termasuk dalam peranti)

Sistem vakum：

• dilengkapi dengan sistem pam molekul GZK-103D (dibuat di Jerman)
• Standard 5E-5mbar Had 7.4E-6mbar

Pengukuran ketebalan filem：

• Pengukur ketebalan filem getaran quartz yang tepat dipasang pada instrumen untuk memantau ketebalan filem dalam masa nyata dengan resolusi 0.10 Å
• Paparan LED dan juga memasukkan data yang berkaitan dengan filem yang dibuat

Saiz produk：

• L1300mm×W660mm H1200mm
• Berat bersih: 160 kg

CrystalTiga sasaran magnetron sputter

Nombor Model:VTC-600-3HD

Sijil Kualiti:Pengiktirafan CE

Gunakan petua：

• Peranti ini adalah peranti DIY, parameter berubah besar sebelum membeli, pastikan telefon berkomunikasi dengan teliti
• Untuk mendapatkan kualiti filem yang lebih baik, mesti memasuki gas tulen yang tinggi (cadangan > 5N)
• Pastikan kepala sputtering, sasaran, substrat dan meja sampel bersih sebelum salutan sputtering
• Untuk mencapai penggabungan yang baik filem dengan dasar, bersihkan permukaan dasar sebelum sputtering
• Pembersihan ultrasonik (klik gambar di bawah untuk parameter terperinci): (1) ultrasonik aseton (2) ultrasonik isopropanol - mengeluarkan minyak (3) mengeringkan nitrogen (4) mengeluarkan kelembapan dalam oven vakum.
• Pembersihan plasma: permukaan boleh kasar, boleh mengaktifkan ikatan kimia permukaan, boleh mengeluarkan pencemar tambahan.
• Membuat lapisan penampan tipis (kira-kira 5 nm): seperti Gr, Ti, Mo, Ta, boleh digunakan untuk meningkatkan pelekat logam dan aloi.

Amaran：

• Nota: Pemasangan dalam produk mempunyai komponen voltan tinggi, dilarang membongkar peribadi, badan mudah alih dengan kuasa
• Injap pengurangan tekanan harus dipasang pada silinder gas (peralatan standard tidak termasuk), memastikan tekanan output gas terhad kepada 0.02 MPaBerikut untuk kegunaan yang selamat
• Kepala sputter disambungkan ke voltan tinggi. Untuk keselamatan, pengendali mesti mengambil sampel dan menukar sasaran sebelum mematikan peranti